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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Evento (Conference Proceedings)
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
IdentificadorJ8LNKAN8RW/34DNTQR
Repositóriodpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.18.15.50.56   (acesso restrito)
Última Atualização2015:04.16.19.27.16 (UTC) administrator
Repositório de Metadadosdpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.18.15.50.58
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.00.20.19 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE--PRE/
Rótulolattes: 6776235915192672 1 RossiUedaOliv:2008:ReBlPu
Chave de CitaçãoRossiUedaOliv:2008:ReBlPu
TítuloRedesign of a HV Blumlein Pulser for Pulse Upgrade in the Microsecond Range
FormatoDVD
Ano2008
Data de Acesso21 maio 2024
Tipo SecundárioPRE CI
Número de Arquivos1
Tamanho362 KiB
2. Contextualização
Autor1 Rossi, José Osvaldo
2 Ueda, Mário
3 Oliveira, R M
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
2 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1 rossi@plasma.inpe.br
2 ueda@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailrossi@plasma.inpe.br
Nome do EventoIEEE International Power Modulator Conference.
Localização do EventoLas Vegas
Editora (Publisher)IEEE
Título do LivroProceedings
Tipo TerciárioPaper
Histórico (UTC)2008-12-18 18:47:51 :: lattes -> marciana ::
2009-01-06 12:04:22 :: marciana -> administrator ::
2018-06-05 00:20:19 :: administrator -> marciana :: 2008
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chaveplasma implantation
Blumlein Lines
high voltage
ResumoAt INPE we have developed a HV 100 kV/200 A (nominal) Blumlein pulser with pulse duration of 1 µs in order to achieve higher ion energies in plasma implantation process. High voltage nitrogen glow discharges were obtained with simultaneous ion implantation using the Blumlein pulser as a single source. By using this pulser the obtained results for implanted silicon samples have indicated that N2 + ion penetration depths increase with higher applied voltages and treatment times. Unfortunately, depth values are much less than the predicted by the SRIM (Stopping & Range of Ions in Matter) simulation mainly due to the short pulse duration. The basic reason is that the pulse peak duration obtained (800 ns) is of the order of the acceleration & implantation times for the ions coming from plasma sheath formed around the treated sample. Increasing pulse duration of the Blumlein system to encourage its use in aluminum and polymer treatments is a possibility that we are exploring. For this, we are redesigning our pulser to obtain longer pulse duration of the order of 5 µs. The drawbacks of this new design are the reduced nominal voltage characteristic of 60 kV and the necessity of charging the cables up to 30 kV, although in practice (as the generator structure is in air) corona discharges have limited the output voltage up to 50/60 kV for repetition rates of ~100 Hz used in our treatments. Therefore, the objective of this paper is to present the implantation results that led to the study of the modifications in the pulser circuitry as well as the main aspects and details of this new design.
ÁreaFISPLASMA
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvorossi_redesign.pdf
Grupo de Usuárioslattes
marciana
administrator
marciana
Grupo de Leitoresadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoIEEEXplore
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
6. Notas
NotasSetores de Atividade: Administração Pública, Defesa e Seguridade Social.
Campos Vaziosarchivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory date descriptionlevel doi edition editor isbn issn lineage mark mirrorrepository nextedition numberofvolumes orcid organization pages parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisheraddress resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark serieseditor session shorttitle sponsor subject tertiarymark type url volume
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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